抛光氮化铝 ALN 陶瓷基板

抛光氮化铝 ALN 陶瓷基板

GRWAY® 是制造商和供应商抛光氮化铝 ALN 陶瓷基板.氮化铝（AlN）陶瓷具有高导热率（是氧化铝陶瓷的5-10倍）、低介电常数和损耗因数、良好的绝缘性和优异的机械性能、无毒、高耐热性、耐化学性、线膨胀系数与Si相近，广泛应用于通信元件、大功率LED、电力电子器件等领域。特殊规格产品可根据要求生产。

氮化铝 ALN 陶瓷基板性能

- 高导热率、高抗弯强度、耐高温

- 良好的电绝缘性

- 低介电常数和损耗

- 能够进行激光钻孔、金属化、电镀和钎焊

AlN 基板/晶圆的常规尺寸

PS：未列出的其他尺寸可根据您的要求提供。

氮化铝 (ALN) 陶瓷基板特性

1.微观结构均匀

2.高导热率* (70-180 Wm-1K-1)，通过加工条件和添加剂定制

3.电阻率高

4.热膨胀系数接近硅

5.耐腐蚀、耐冲刷

6.优异的抗热震性能

7.在H2和CO2气氛中高达980°C以及高达1380°C的空气中化学稳定（表面氧化发生在780°C左右；表面层在高达1380°C的温度下保护本体）。